在看了材料組的情況之後。
林決又來到EUV光學平臺總實驗室內。
在新材料的研發過程中。
光學組這邊也沒閒著，一直在對林氏函子光學變式，零偏對映裝入整機的方案，進行著不斷的改進和測試。
林決開啟門走進實驗室，那股熟悉的臭氧味瞬間迎面而來。
皺著眉適應了好一會兒，陳望山才笑呵呵道，
“我還以為在交流會結束後，你還得跟那些數學機構應酬呢。”
林決笑道，
“老師我可沒那個精力，讓學校去管吧，還是實驗室待著不燒心......”
正在除錯光路的蔣墨聞言後也不回道，
“這話我愛聽！得勁兒！”
在場眾人聞言，不禁都是都是笑了出來。
大家能來參與這個專案，目的都挺純粹的！
那便是搞出一臺完全自主研發，達到國際一流水平的光刻機！
“好了，大家先停一下！我們開個短會。”
林決到拍了拍手，然後把眾人叫到辦公室。
“老師，先具體說說最近一週的情況。”
陳望山點了點頭，
“首先，零偏對映方案電路最佳化除錯達到最優水準，還是延續之前的結果，進入整機後，本週內只報錯一次，其餘時間全部透過。”
“這個成績極其亮眼，已經達到裝機水平了。”
“可以。”
林決點了點頭，並沒有絲毫意外。
緊接著，其餘各個崗位也開始跟進彙報。
約莫十五分鐘後。
陳望山基本將本週光學組進度完全告知後，林決滿意點了點頭，
“ ......目前看來，我們進度非常完美！”
“多層膜誤差的工作，基本可以進行收尾了.......”
說著，林決撥出一口氣，
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