要是林教授錯了怎麼辦？
就憑他加入光機所後，不到一個月時間，就讓EUV 反射鏡多層膜跟上國際一流指標。
就算接下來林教授是錯，那也得讓他錯個高興，錯個酣暢淋漓！
畢竟......
要是萬一林教授又從錯誤中，發現新的靈感呢？
就算是錯誤，那豈不是也價值千金？
這種說法，是絲毫不誇張的。
華夏苦高階晶片產業久矣！！！
AI，超級計算機......
電子資訊時代，掌握了光刻技術，才能夠將這些高階產業走得更遠！
早上九點。
當林決來到實驗室，人已經全部到齊了。
“林教授，裝置已經按照您的要求改完了，今天咱們的任務是什麼？”
看到他來，蔣墨跑過來打了個招呼。
“按照之前的規劃，直接上整機先試試。”
林決口中的整機並非是說光刻機。
而是在實驗室內，將擁有林氏函子光學變式的模型，在各個大型裝置上完成流程閉環。
“今天就上嗎？不用再最佳化一下流程？”蔣墨有些驚訝。
林決點了點頭，很是確定，
“沒事，先跑一遍再說吧。”
“那行！”
他都如此說了，蔣墨便也不再反對。
然後在黃所，蔣墨，陳望山等人的組織下，第一次用林氏函子光變式對映模型的整機閉環開始了。
光學源頭完成裝配校準，真空建立、光路除錯、矽片上片、曝光、刻蝕配套聯調、檢測晶圓良率.....
各個關卡，都有專業的工程師盯著。
第一次流程需要的時間挺多的，需要整整72個小時！
........
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